I. Pengenalan produk

Peralatan ini adalah peralatan yang dipatenkan untuk mengendalikan gas asid yang dihasilkan semasa pengeluaran kimia dan pembersihan logam asad.

Kaedah rawatan adalah menggunakan menara pembersihan dan peralatan menyokong penyemburan basah, pelepasan memenuhi piawaian pelepasan pencemar udara GB16297-1996.

II. Komposisi proses

Sistem ini terdiri daripada menara pembersihan pelbagai peringkat, kipas angin, pam air, paip eksis dan lain-lain. Reka bentuk kombinasi peralatan yang berbeza mengikut keadaan yang berbeza, juga boleh mengikut keperluan pengguna, menggunakan kawalan PLC dan alat kawalan diri, memantau keadaan kerja sepanjang masa, melebihi penggera, mencapai pengurusan automasi.

3. prinsip kerja

Peranti ini menggunakan larutan natrium hidroksida untuk menyerap cecair neutral untuk membersihkan gas buangan. Gas memasuki menara pembersihan pelbagai peringkat di bawah daya penyerapan penghawa dingin sentrifugal, dan cairan alkali yang disemburbut oleh muncung dalam menara pembersihan bersentuhan dengan gas, dan tindak balas neutral berlaku. Bergantung kepada parameter gas buang yang berbeza, pembersihan satu atau lebih tahap boleh digunakan, jika suhu terlalu tinggi, langkah-langkah penyejukan boleh digunakan selepas memasuki rawatan menara pembersihan, pembersihan gas yang dilepaskan ke atmosfera selepas mencapai standard.

Keterangan Pilihan

Sistem ini perlu direka mengikut komponen gas, aliran, kepekatan, suhu dan penunjuk-penunjuk lain yang disediakan oleh pengguna, jika pengguna tidak menguasai penunjuk-penunjuk di atas, aliran kerja sebelum pelepasan gas buangan boleh dijelaskan dengan jelas, oleh pereka syarikat kami untuk dipilih.

5. Bidang yang digunakan

Digunakan secara meluas dalam pelbagai industri kimia, elektronik, metalurgi, pengeluaran perindustrian, pembersihan asid plating dan pelbagai bidang proses pembersihan gas, gas berbahaya utama yang dikendalikan adalah kabut asid sulfat, kabut asid klorida, kabut asid krom, kabut asid nitrat (asap kuning), kabut asid fosfat, kabut asid hidrofluor, hidrogen klorida, hidrogen fluorida, hidrogen sulfida, sulfur dioksida dan lain-lain.